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DP-LK98BII電化(huà)學分(fēn)析(xī)係統/電(diàn)化學分(fēn)析(xī)儀

電(diàn)化(huà)學分析(xī)係統/電化學分析儀
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電化學分析係統/電化學分(fēn)析儀(yí) 型號;DP-LK98BII
由主機+係統軟件+電係統+計算機+打印(yìn)機(jī)組(zǔ)成電化學(xué)分(fēn)析係統,該(gāi)係(xì)統(tǒng)可成三(sān)十多種電化學研究與(yǔ)分(fēn)析(xī)方法(fǎ),應用(yòng)於電化學機(jī)理研(yán)究,電過(guò)程動力學(xué)研究,金屬腐蝕(shí),生物學及冶(yě)金(jīn),製藥,環境生(shēng)態學域。測定無(wú)機(jī)金屬(shǔ)離(lí)子,有(yǒu)機(jī)物(酚類(lèi),酮類,芳(fāng)香族(zú)化(huà)合(hé)物(wù))。
參(cān)數(shù):
1,恒(héng)電(diàn)位(wèi)/恒電流(liú)
► 電位(wèi)分(fēn)辨率(shuài)() 0.1mV
► 電流(liú)靈敏度(dù) ≤50pA
► 時間分(fēn)辨(biàn)率(計(jì)時(shí)分(fēn)析法) 0.1 mS
2,動態參(cān)數調整
► 電勢控製(zhì)範(fàn)圍(wéi) -10.0~+10.0V
► 恒電流範圍 -500~+500mA
► 槽壓(yā) -50V~+50V
► 電位增量(liáng) 0.2mV~50V
► 脈衝寬(kuān)度(dù) 0.0001~10Sec
► 方波(bō)頻率(shuài) 1~100KHz
► 交流頻(pín)率(shuài) 1~10KHz
► 二次(cì)諧波(bō)交(jiāo)流頻率 1~1KHz
► 采(cǎi)樣間隔 0.0001~60000Sec
► 平衡時(shí)間(jiān) 0~60000Sec
► 濾波參數 50Hz~1000KHz
► 電勢信號掃描範圍(wéi) 10.0V
► 掃描速度 0.1mV/S~5000V/S(△E=1mV)
► 脈衝間(jiān)隔(gé) 0.0001~60000Sec
► 脈衝(chōng)振幅 0.001~0.5V
► 方(fāng)波(bō)幅度 0.001~0.5V
► 交流幅度 0.001~0.4V
► 電解時間 1~60000Sec
► 電沉積(jī)時(shí)間(jiān) 0~60000Sec
► 電流(liú)測量範圍(wéi) ±100mA~±10nA (8個(gè)量程(chéng)檔位(wèi))
主要特(tè)點:
可提(tí)供(gōng)的電化(huà)學方(fāng)法
恒電位(wèi):單(dān)電(diàn)位階(jiē)躍計時電(diàn)流(liú)法(fǎ),雙電位階躍(yuè)計時電(diàn)流法(fǎ),計(jì)時(shí)電量法(fǎ),電流(liú)—時(shí)間曲(qū)綫,開路(lù)電位--時間曲綫,控(kòng)製電位電解庫(kù)侖(lún)法(fǎ),電位溶出(chū)E-T曲(qū)綫,微(wēi)分(fēn)電(diàn)位溶(róng)出(chū)分析(xī)法(fǎ)。
綫(xiàn)性掃(sǎo)描(miáo):綫性(xìng)掃描(miáo)伏(fú)安(ān)(譜)法(fǎ),循(xún)環(huán)伏安法及無限(xiàn)次循(xún)環伏安(ān),塔(tǎ)菲(fēi)爾曲綫,采樣(yàng)電流(liú)譜(伏安)法,綫性掃(sǎo)描溶出(chū)伏安(ān)法(fǎ)。
脈衝(chōng):常規(guī)脈衝(chōng)伏安(譜)法(fǎ),差分(fēn)脈衝(chōng)伏安(譜(pǔ))法,差分常規(guī)脈衝(chōng)伏安(譜(pǔ))法,差分脈衝(chōng)溶(róng)出伏(fú)安(ān)法(fǎ)。
方波:方(fāng)波(bō)伏(fú)安(譜(pǔ))法,循(xún)環(huán)方波伏(fú)安法,方波溶出(chū)伏(fú)安法。
恒電流:單(dān)電流階躍(yuè)計(jì)時(shí)電位法,雙(shuāng)電(diàn)流(liú)階躍(yuè)計(jì)時電(diàn)位法,綫性電(diàn)流(liú)計時電位法(fǎ),控製電(diàn)流電解(jiě)庫(kù)侖法(fǎ)。
交(jiāo)流:交流伏(fú)安法(fǎ),選相(xiāng)交(jiāo)流伏安法(fǎ),二(èr)次(cì)諧波(bō)交(jiāo)流(liú)伏(fú)安法,交流(liú)溶(róng)出伏安(ān)法。