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產品(pǐn)中心(xīn)專用(yòng)儀器(qì)儀表DP-LB-FH夫蘭克(kè)赫(hè)茲(zī)實驗(yàn)儀(yí)DP-LB-FH
夫蘭(lán)克赫(hè)茲實(shí)驗儀DP-LB-FH
產(chǎn)品(pǐn)簡介(jiè)
product
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產 |
|---|
夫蘭克(kè)赫茲實(shí)驗儀DP-LB-FH
夫蘭(lán)克(kè)赫茲實驗(yàn)儀DP-LB-FH
（無(wú)需加(jiā)熱(rè)），點(diǎn)測譜峰(fēng)（穀）數≥7，示波器(qì)觀(guān)測(cè)譜(pǔ)峰（穀）數≥7，實(shí)驗(yàn)麵(miàn)板圖示法(fǎ)表示(shì)，5塊LED數字麵板(bǎn)盡(jìn)數顯示實(shí)驗參數，各(gè)參數(shù)表(biǎo)頭立(lì)，清(qīng)晰直觀(guān)，穩(wěn)定(dìng)可靠，手動，半自(zì)動，微機實(shí)驗方式齊。
光(guāng)電效應(普朗(lǎng)克(kè)常數)實驗(yàn)儀(yí) 型號：DP-LB-PH3A
光(guāng)電管靈(líng)敏度(dù)≥1mA/Lm，暗電(diàn)流≤10 -12A；
零(líng)飄≤0.2%（滿(mǎn)度(dù)讀數，10 A檔，預(yù)熱20分(fēn)種後(hòu)，正常環(huán)境(jìng)下30分鐘(zhōng)內(nèi)測得(dé)）；3位(wèi)半LED顯示，電(diàn)流zui小顯(xiǎn)示(shì)10 A，電壓zui小(xiǎo)顯示1mV，所以可以采(cǎi)用(yòng)“零電流(liú)法(fǎ)”或“補償法(fǎ)”確測(cè)出截(jié)止(zhǐ)電(diàn)壓
電(diàn)子束（示波器(qì)）實驗(yàn)儀 型號：DP-LB-EB4
測量電(diàn)子(zǐ)在電(diàn)場，磁(cí)場(cháng)中(zhōng)運(yùn)動規律(lǜ)，示波(bō)器的原理(lǐ)，結構及組(zǔ)裝(zhuāng)，示(shì)波(bō)器的使用(yòng)（配(pèi)合其(qí)他(tā)儀器(qì)成）
變溫霍爾效應實(shí)驗儀(yí) 型號：DP-HT-648
霍(huò)爾(ěr)效應的測量是開展半導體(tǐ)研(yán)究的重(zhòng)要方(fāng)法。本(běn)機(jī)利用計(jì)算(suàn)機(jī)的數(shù)據(jù)采集(jí)和(hé)處理在80K-400K溫度(dù)範圍(wéi)內對霍爾(ěr)係數和電(diàn)導(dǎo)率(shuài)的聯合測量，行半導(dǎo)體導電機製及散射(shè)機製(zhì)的研究(jiū)，並(bìng)可確(què)定半(bàn)導體的些(xiē)基本(běn)參數，如(rú)導電(diàn)類(lèi)型(xíng)，載(zǎi)流(liú)子濃(nóng)度，遷移率，禁(jīn)帶寬度以及(jí)雜質電(diàn)離能(néng)等(děng)。
主要(yào)標
1．電磁鐵(tiě) 0-300mT連續(xù)可調
2. 勵(lì)磁電源 0-5A連(lián)續可(kě)調(tiáo) 可自(zì)動換向 穩定性﹤±0.1%
3. 數(shù)字(zì)特(tè)斯拉(lā)計(jì) 0-2000mT 三位半數字(zì)顯示 分辨率0.001
4. 恒(héng)流(liú)源(yuán)輸出 1mA 穩定(dìng)性±0.1%
5. 數(shù)據(jù)采(cǎi)集(jí)係(xì)統霍(huò)爾電壓(yā)測量zui小分(fēn)辨(biàn)率(shuài)1uV
6. 溫(wēn)度(dù)變化測(cè)量(liáng)範(fàn)圍 80-400K
7. 整套儀器(qì)由(yóu)電(diàn)磁(cí)鐵(tiě)係統，電(diàn)
納米微粒製備實(shí)驗儀 型(xíng)號：DP-HT218
參照電阻加熱(rè)蒸(zhēng)發(fā)法製(zhì)備微顆粒(lì)的原理(lǐ)，行(háng)相(xiāng)關的金屬，氧化物(wù)，分(fēn)子材料及(jí)其(qí)他材料的(dí)微顆粒製(zhì)備(bèi)實驗(yàn)或演示
，基本原理
納米科(kē)學(xué)（Nano-ST）是20紀80年(nián)代(dài)末期(qī)剛剛誕(dàn)生(shēng)並(bìng)正(zhèng)在迅速發展(zhǎn)的新(xīn)科。它是研(yán)究由尺寸在0.1～100納米（nm）之間的物質(zhì)組(zǔ)成體係的(dí)運(yùn)動(dòng)規(guī)律和(hé)相(xiāng)互(hù)作(zuò)用以(yǐ)及可能(néng)的實(shí)際(jì)應用(yòng)中(zhōng)的問題的(dí)科學，它是(shì)度交(jiāo)叉(chā)的(dí)綜(zōng)合性(xìng)學科(kē)，也是個(gè)融前沿(yán)科(kē)學(xué)和(hé)於(yú)體的(dí)整體係(xì)。
在(zài)整(zhěng)個(gè)納米(mǐ)科(kē)的發展過(guò)程(chéng)中,納米(mǐ)微(wēi)粒的(dí)製備(bèi)和(hé)微(wēi)粒性(xìng)質的研究是(shì)zui早開展的。
微(wēi)粒製備的方法很多,按製(zhì)備方法可(kě)分為物理方(fāng)法和化(huà)學方法。按製備(bèi)路(lù)經分(fēn)，可(kě)分為(wéi)粉(fěn)碎(suì)法(fǎ)和聚(jù)集法(fǎ)。
本實(shí)驗(yàn)儀采(cǎi)用電阻加(jiā)熱，氣體冷(lěng)凝(níng)法製備納米(mǐ)微(wēi)粒(lì)。
圖中顯(xiǎn)示蒸汽(qì)冷(lěng)凝(níng)法(fǎ)製備納米微粒的過(guò)程。利用抽(chōu)氣(qì)泵(bèng)（真空泵(bèng)）對係(xì)統行(háng)真空(kōng)抽吸(xī)，並利(lì)用惰性(xìng)氣體行置(zhì)換。惰(duò)性氣體(tǐ)為純(chún)Ａｒ，Ｈｅ等，有些情(qíng)形也可以(yǐ)考慮(lǜ)用Ｎ２氣(qì)。經過幾次置換後，將真空反應室內(nèi)保護氣(qì)的(dí)氣(qì)壓(yā)調節(jié)控製至(zhì)所(suǒ)需(xū)的參數範圍，通(tōng)常約為0.1ｋＰａ至10ｋＰａ範圍(wéi)，與所需(xū)粒子粒徑有關。當原材料被加(jiā)熱至(zhì)蒸(zhēng)發溫度(dù)時(shí)蒸發成(chéng)氣相(xiāng)。氣相的原(yuán)材(cái)料原(yuán)子與惰(duò)性氣(qì)體(tǐ)的(dí)原子（或分子(zǐ)）碰(pèng)撞，迅速降(jiàng)低(dī)能量而(ér)驟(zhòu)然冷(lěng)卻。驟冷使得原材料的(dí)蒸(zhēng)汽中形成很的局(jú)域過飽和(hé)，非常(cháng)有利(lì)於(yú)成核。成(chéng)核(hé)與(yǔ)生(shēng)長過(guò)程都是在短的時間內發(fā)生的。形(xíng)成原子(zǐ)簇(cù)，然後(hòu)繼續生長成(chéng)納(nà)米微晶，zui終在(zài)收集器上收(shōu)集(jí)到納米粒子。
二(èr)，儀器組成
如(rú)圖所示(shì)
納(nà)米(mǐ)微粒製備實驗儀外型(xíng)圖(tú) 儀器照(zhào)片(piàn)
實(shí)驗儀(yí)器(qì)：
玻(bō)璃真空罩(zhào)G置於(yú)儀器真空橡(xiàng)皮(pí)圈(quān)的(dí)上方(fāng)。平(píng)時(shí)真空罩(zhào)內(nèi)保(bǎo)持定(dìng)程度的(dí)低(dī)氣(qì)壓，以維(wéi)護(hù)係統的清潔。當需要(yào)製(zhì)備(bèi)微粒(lì)時，打開(kāi)閥(fá)門Ｖ2讓(ràng)空(kōng)氣入(rù)真空室(shì)，使得真(zhēn)空室內外氣(qì)壓相(xiāng)近(jìn)即(jí)可(kě)掀(xiān)開真(zhēn)空(kōng)罩(zhào)。真空(kōng)罩(zhào)下(xià)方(fāng)真(zhēn)空室底盤(pán)Ｐ的上倒置了(liǎo)隻玻璃燒(shāo)杯Ｆ，用(yòng)作納(nà)米微粒的(dí)收(shōu)集器。兩個(gè)銅電(diàn)Ｉ之間可(kě)以接上(shàng)隨機(jī)附(fù)帶的螺旋狀鎢絲Ｈ。銅電(diàn)接(jiē)至(zhì)蒸發速率控(kòng)製(zhì)單(dān)元(yuán)，若在真空(kōng)狀(zhuàng)態(tài)下或低氣壓(yā)惰性(xìng)氣(qì)體狀(zhuàng)態(tài)下啟動(dòng)該單(dān)元(yuán)，鎢(wū)絲(sī)上(shàng)即通過(guò)電流並(bìng)可(kě)獲得(dé)1000℃ 以上(shàng)的溫。真空底(dǐ)盤Ｐ開有四(sì)個(gè)孔，孔(kǒng)的(dí)下方分別(bié)接有氣(qì)體壓力傳感(gǎn)器(qì)Ｅ，以(yǐ)及(jí)連結(jié)閥(fá)門(mén)Ｖ1，Ｖ2和電磁(cí)閥(fá)Ｖe的管(guǎn)道。氣(qì)體(tǐ)壓力傳感器Ｅ連結(jié)至(zhì)真空度測(cè)量(liáng)單(dān)元，並在數字顯(xiǎn)示(shì)表(biǎo)Ｍ1上直接(jiē)顯(xiǎn)示(shì)實驗(yàn)過程(chéng)中(zhōng)真空(kōng)室內的(dí)氣體壓力(lì)。閥(fá)門(mén)Ｖ1通過管道與(yǔ)儀(yí)器後側(cè)惰性氣(qì)體接(jiē)口連(lián)結，實(shí)驗(yàn)時可利(lì)用Ｖ1調整氣(qì)體(tǐ)壓(yā)力，亦可借(jiè)助(zhù)Ｖe調整壓力。閥門(mén)Ｖ2的另端(duān)直通大氣，主要為打開(kāi)鐘罩而設(shè)立。電磁閥Ｖe的(dí)另(lìng)端接至抽(chōu)氣單(dān)元(yuán)並(bìng)由該單(dān)元(yuán)實(shí)行(háng)抽氣的(dí)自動(dòng)控(kòng)製，以(yǐ)保(bǎo)證(zhèng)抽氣(qì)的順(shùn)利行並排(pái)除(chú)真空(kōng)泵油(yóu)倒(dǎo)灌入真(zhēn)空室。蒸(zhēng)發控製(zhì)單元的加熱(rè)率(shuài)控製(zhì)旋鈕(niǔ)置於儀(yí)器(qì)麵板(bǎn)上。調節(jié)加熱器(qì)時數(shù)字顯示(shì)表(biǎo)Ｍ2直(zhí)接顯示(shì)加(jiā)熱率(shuài)。
三，主要(yào)標
真空(kōng)度<0.01KPa
氣(qì)體壓力(lì)測量(liáng)範(fàn)圍0.01KPa ～120KPa 四(sì)位半數(shù)字顯(xiǎn)示
加熱率(shuài)0 ～200W
率測量 三(sān)位半(bàn)數字顯(xiǎn)示(shì)
電(diàn)源(yuán) 220V 50Hz
四(sì)，操作步驟(zhòu)
1.準備(bèi)作(zuò)
（1）檢(jiǎn)查儀器係(xì)統的(dí)電(diàn)源接(jiē)綫(xiàn)，惰性氣(qì)體(tǐ)連結(jié)管道(dào)是(shì)否正常(cháng)。惰(duò)性氣體用純Ar氣(qì)，亦可考(kǎo)慮(lǜ)使用化學性(xìng)質不活(huó)潑(pō)的(dí)純Ｎ2氣(qì)。
（2）利(lì)用(yòng)脫脂(zhī)白綢布(bù)，分析純酒，仔(zī)細擦淨(jìng)真空罩以及罩(zhào)內(nèi)的底(dǐ)盤，電和燒杯(bēi)。
（3）將(jiāng)螺(luó)旋狀鎢絲接(jiē)至(zhì)銅電。
（4）從樣品(pǐn)盒(hé)中取(qǔ)出銅(tóng)片（用(yòng)於(yú)納米(mǐ)銅粉製(zhì)備），在鎢絲的(dí)每(měi)圈(quān)上(shàng)掛片(piàn)，罩(zhào)上燒(shāo)杯。
（5）罩(zhào)上(shàng)真空(kōng)罩(zhào)，關(guān)閉(bì)閥(fá)門Ｖ1，Ｖ2，將加熱率旋(xuán)鈕沿逆時針方(fāng)向(xiàng)旋(xuán)至zui小，合上電(diàn)源總(zǒng)開關(guān)Ｓ1。此時真空(kōng)度顯(xiǎn)示器(qì)顯(xiǎn)示(shì)出(chū)與大(dà)氣壓(yā)相當(dāng)的數值(zhí)，而(ér)加(jiā)熱(rè)率顯(xiǎn)示值為零。由(yóu)於ＨＴ-21８預置了(liǎo)不(bù)當操作(zuò)報(bào)警，如果加熱率旋鈕未調(tiáo)節(jié)至(zhì)zui小(xiǎo)，蜂(fēng)鳴(míng)器(qì)將持(chí)續發(fā)出信號(hào)直(zhí)至糾正(zhèng)為止(zhǐ)。
（6）合(hé)上開關Ｓ2，此時抽氣單元開始作，電磁(cí)閉Ｖe自動接通，真空室內(nèi)壓力(lì)下(xià)降。下(xià)降至定值(zhí)時關(guān)閉(bì)Ｓ2，觀察真空(kōng)度是(shì)否(fǒu)基(jī)本(běn)穩定(dìng)在該值附近，如果真(zhēn)空度(dù)持續(xù)變差(chà)，表明(míng)存在漏氣因(yīn)素，檢查Ｖ1，Ｖ2是(shì)否關閉。正常情況下(xià)不(bù)應漏(lòu)氣(qì)。
（7）打開閥門(mén)Ｖ1，此時惰性氣(qì)入(rù)真(zhēn)空室(shì)，氣壓隨之(zhī)變大。
（8）熟(shú)練(liàn)上述(shù)抽(chōu)氣與(yǔ)供氣的(dí)操作過程，直至可(kě)以(yǐ)按實驗的要求(qiú)調節氣(qì)體壓(yā)力(lì)。
（9）準備好備用的(dí)幹(gān)淨毛刷和(hé)收(shōu)集納(nà)米(mǐ)微(wēi)粉(fěn)的容器。
2.製備銅(tóng)納米(mǐ)微粒(lì)。
（1）關(guān)閉Ｖ1，Ｖ2閥(fá)門(mén)，對真(zhēn)空室(shì)抽氣至(zhì)0.05ｋＰａ附近。
（2）利用(yòng)氬(yà)氣(qì)（或(huò)氮氣）衝洗真空室。打開(kāi)閥門Ｖ1使(shǐ)氬氣（或氮氣(qì)）入(rù)真空室，邊抽氣(qì)邊氣（氬(yà)氣(qì)或氮氣）約(yuē)５分(fēn)鐘。
（3）關閉閥Ｖ1，觀(guān)察真空度(dù)至(zhì)0.13ｋＰａ附近時(shí)關(guān)閉Ｓ2，停止抽氣。此時(shí)真空度(dù)應(yīng)基本穩(wěn)定在(zài)0.13ｋＰａ附近。
（4）沿順時針方向緩慢旋轉加熱(rè)率旋鈕(niǔ)，觀(guān)察加(jiā)熱(rè)率顯示器(qì)，同時關(guān)注鎢(wū)絲。隨(suí)著(zhuó)加熱率(shuài)的逐(zhú)漸增大(dà)，鎢(wū)絲逐漸(jiàn)發紅而(ér)變亮。當溫(wēn)度(dù)達到(dào)銅(tóng)片（或其(qí)它材(cái)料）的(dí)熔點時(shí)銅片(piàn)熔化，並(bìng)由於表(biǎo)麵張力的(dí)原因，浸(jìn)潤(rùn)至(zhì)鎢絲(sī)上(shàng)。
（5）繼(jì)續加大加(jiā)熱率(shuài)時(shí)可(kě)以(yǐ)見(jiàn)到用作(zuò)收集(jí)器的(dí)燒杯(bēi)表(biǎo)麵變黑，表(biǎo)明(míng)蒸發(fā)已經(jīng)開(kāi)始。隨著蒸發過(guò)程的(dí)展(zhǎn)，鎢絲表(biǎo)麵(miàn)的銅(tóng)液越來(lái)越少(shǎo)，zui終蒸發掉(diào)，此時應立即(jí)將加熱率調(tiáo)至zui小。
（6）打(dǎ)開閥門Ｖ2使空氣入真空室(shì)，當壓力(lì)與大氣壓(yā)zui近時，小心移開真空罩，取(qǔ)下作為收(shōu)集(jí)罩的(dí)燒(shāo)杯。用(yòng)刷(shuā)子輕(qīng)輕(qīng)地(dì)將(jiāng)層(céng)黑色粉末刷至(zhì)燒杯底再(zài)倒入備好(hǎo)的(dí)容(róng)器，貼上(shàng)標(biāo)簽。收(shōu)集到(dào)的細(xì)粉即是(shì)納米(mǐ)銅粉(fěn)。
（7）在2×0.13ｋＰａ，５×0.13ｋＰａ，1０×0.13ｋＰａ及(jí)３０×0.13ｋＰａ處重復上述實驗(yàn)步驟製備，並記(jì)錄(lù)每(měi)次蒸發時(shí)的加熱率，觀察(chá)每次製備時蒸發情況有(yǒu)何差異。
溫(wēn)馨提(tí)示(shì)：以(yǐ)上(shàng)產品資料(liào)和(hé)圖片都是(shì)按照順序(xù)相(xiāng)對(duì)應的(dí)
本公(gōng)司主營 液(yè)氮(dàn)治(zhì)療(liáo)儀，電測(cè)水位計(jì)，空盒(hé)氣壓表，奧氏氣體分析儀。四(sì)聯自(zì)動(dòng)射流萃取器(qì)，煙塵煙氣分析儀(yí)，便(biàn)攜式煙(yān)氣分(fēn)析(xī)儀，金(jīn)屬粉(fěn)末流動(dòng)性測定儀(yí)， 汙(wū)垢熱(rè)阻檢(jiǎn)測儀 ，數字式(shì)大氣(qì)壓計(jì) ，不鏽(xiù)鋼(gāng)自動溶液過(guò)濾(lǜ)器，紫外(wài)輻(fú)照(zhào)計，氫(qīng)氣(qì)發(fā)生器(qì)，露(lòu)點傳感器(qì) ，紅(hóng)外測(cè)油(yóu)儀 ，汙染數SDI測(cè)定(dìng)儀(yí)，三聚氰(qíng)胺(àn)速測儀 ，粉體綜(zōng)合(hé)特性測(cè)試儀(yí) 粉(fěn)體特(tè)性測(cè)試(shì)儀(yí) 放(fàng)射性(xìng)檢測儀(yí)，防(fáng)靜電(diàn)表(biǎo)/靜(jìng)電(diàn)測(cè)試儀/ 濕式氣體流量計(jì) 氣體流(liú)量計 流(liú)量計等(děng)。公司(sī)秉承“顧(gù)客至上(shàng)，銳意(yì)取”的(dí)經營(yíng)理(lǐ)念(niàn)，堅(jiān)持(chí)“客戶*”的(dí)原(yuán)則(zé)為(wéi)廣(guǎng)大客戶(hù)提(tí)供(gōng)優質的(dí)服務(wù)。歡(huān)迎惠(huì)顧！
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