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專用儀(yí)器(qì)儀(yí)表(biǎo)
DP-HT218納米(mǐ)微(wēi)粒製備(bèi)實(shí)驗儀(yí)





納米微粒(lì)製(zhì)備實(shí)驗(yàn)儀(yí)
產(chǎn)品簡介
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相關文(wén)章電(diàn)子式液(yè)體密(mì)度計(jì)vs玻璃浮子式(shì):精度,速(sù)度與成(chéng)本(běn)對(duì)比(bǐ)
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納米微粒(lì)製(zhì)備(bèi)實驗儀(yí) 型(xíng)號:DP-HT218
參照(zhào)電阻(zǔ)加(jiā)熱(rè)蒸發法製(zhì)備(bèi)微顆粒(lì)的原(yuán)理(lǐ),行相(xiāng)關(guān)的金屬(shǔ),氧(yǎng)化物(wù),分子(zǐ)材料及其他(tā)材(cái)料的(dí)微(wēi)顆(kē)粒(lì)製備實(shí)驗(yàn)或(huò)演示(shì)
,納(nà)米微(wēi)粒製備實驗儀(yí) 型號:DP-HT218基(jī)本原理
納米科學(Nano-ST)是(shì)20紀(jì)80年代(dài)末(mò)期剛(gāng)剛誕生並正在迅速發展(zhǎn)的新科。它(tā)是(shì)研究由尺(chǐ)寸(cùn)在0.1~100納米(mǐ)(nm)之間(jiān)的(dí)物質組(zǔ)成體(tǐ)係的(dí)運動(dòng)規律和相互作(zuò)用(yòng)以及可能的實際應用(yòng)中(zhōng)的問題的(dí)科(kē)學,它是度交叉(chā)的(dí)綜合性學科,也是個融前(qián)沿科學(xué)和於(yú)體的(dí)整(zhěng)體係。
在整個納米科的(dí)發展(zhǎn)過程(chéng)中,納米微粒(lì)的(dí)製備(bèi)和微粒(lì)性(xìng)質(zhì)的(dí)研(yán)究是zui早(zǎo)開展的(dí)。
微(wēi)粒(lì)製(zhì)備的(dí)方法(fǎ)很多,按製備(bèi)方(fāng)法可分為(wéi)物(wù)理(lǐ)方法(fǎ)和(hé)化學(xué)方法。按製備(bèi)路經分,可分為粉碎(suì)法(fǎ)和聚集法(fǎ)。
本實驗儀采用(yòng)電阻加(jiā)熱,氣體冷(lěng)凝(níng)法製備(bèi)納米(mǐ)微粒。
圖中顯示蒸(zhēng)汽(qì)冷(lěng)凝法(fǎ)製備納米微粒(lì)的過程。利(lì)用(yòng)抽氣泵(真(zhēn)空(kōng)泵(bèng))對係統行真(zhēn)空抽吸(xī),並利用惰性氣體行(háng)置換。惰(duò)性(xìng)氣(qì)體(tǐ)為純Ar,He等(děng),有(yǒu)些(xiē)情形(xíng)也可以考慮用(yòng)N2氣。經過幾次(cì)置(zhì)換(huàn)後(hòu),將(jiāng)真(zhēn)空反應室(shì)內保(bǎo)護(hù)氣(qì)的氣壓調節(jié)控製(zhì)至(zhì)所需(xū)的參數(shù)範圍(wéi),通(tōng)常約(yuē)為(wéi)0.1kPa至(zhì)10kPa範圍,與(yǔ)所需粒(lì)子粒徑有(yǒu)關。當原(yuán)材(cái)料被加(jiā)熱至蒸(zhēng)發溫度(dù)時(shí)蒸(zhēng)發成(chéng)氣相。氣相的(dí)原材料原(yuán)子與(yǔ)惰(duò)性(xìng)氣(qì)體(tǐ)的(dí)原(yuán)子(zǐ)(或分子(zǐ))碰(pèng)撞(zhuàng),迅(xùn)速降低(dī)能量而驟然冷卻。驟冷使得原材(cái)料(liào)的(dí)蒸(zhēng)汽中(zhōng)形成(chéng)很的局(jú)域過飽和,非常有利於成核。成核(hé)與(yǔ)生(shēng)長(cháng)過程(chéng)都是(shì)在短的時(shí)間內發生(shēng)的。形成(chéng)原子(zǐ)簇,然後繼(jì)續生長(cháng)成納(nà)米微(wēi)晶,zui終(zhōng)在(zài)收集器上收(shōu)集到納(nà)米粒子。
二(èr), 型(xíng)號:DP-HT218儀器(qì)組(zǔ)成(chéng)
如(rú)圖所(suǒ)示(shì)
外型(xíng)圖 儀器(qì)照(zhào)片(piàn)
實驗(yàn)儀(yí)器:
玻璃真(zhēn)空罩(zhào)G置於儀器真空(kōng)橡皮圈的上(shàng)方。平時(shí)真空(kōng)罩內(nèi)保持定程度(dù)的低氣(qì)壓(yā),以維護係統的(dí)清潔。當(dāng)需(xū)要(yào)製備(bèi)微(wēi)粒時,打開閥門V2讓空(kōng)氣(qì)入(rù)真空室,使得真空(kōng)室(shì)內(nèi)外(wài)氣(qì)壓相近(jìn)即(jí)可掀(xiān)開(kāi)真空(kōng)罩。真空罩(zhào)下方真(zhēn)空(kōng)室底盤(pán)P的(dí)上(shàng)倒(dǎo)置了(liǎo)隻(zhī)玻璃燒(shāo)杯F,用作(zuò)納(nà)米(mǐ)微粒的(dí)收集器。兩個銅電I之(zhī)間可以接(jiē)上(shàng)隨機(jī)附(fù)帶(dài)的螺旋(xuán)狀鎢絲(sī)H。銅電接至蒸發速(sù)率控製單元,若在真空(kōng)狀態下或低(dī)氣(qì)壓惰(duò)性氣(qì)體(tǐ)狀態下啟(qǐ)動該(gāi)單元,鎢絲上即通過電流並可獲得1000℃ 以上的溫。真空底(dǐ)盤P開有(yǒu)四個(gè)孔(kǒng),孔的下方(fāng)分(fēn)別接(jiē)有氣(qì)體壓力(lì)傳(chuán)感(gǎn)器E,以及(jí)連結閥門V1,V2和(hé)電磁閥Ve的(dí)管道(dào)。氣(qì)體壓力傳(chuán)感(gǎn)器(qì)E連(lián)結至(zhì)真空度測量(liáng)單(dān)元(yuán),並(bìng)在(zài)數字(zì)顯(xiǎn)示表M1上(shàng)直(zhí)接顯示(shì)實(shí)驗過程中(zhōng)真空室(shì)內的氣體壓(yā)力(lì)。閥門V1通過管道與儀器後側惰性氣體(tǐ)接(jiē)口(kǒu)連(lián)結(jié),實驗(yàn)時可(kě)利用V1調整氣(qì)體壓力,亦可(kě)借助Ve調(tiáo)整(zhěng)壓(yā)力。閥門(mén)V2的(dí)另端直(zhí)通大氣,主(zhǔ)要(yào)為打(dǎ)開(kāi)鐘罩而(ér)設立。電磁閥(fá)Ve的另端接(jiē)至抽氣(qì)單元並由該(gāi)單(dān)元(yuán)實行抽氣的自動(dòng)控製,以保(bǎo)證(zhèng)抽(chōu)氣的順利行(háng)並(bìng)排(pái)除真空(kōng)泵油倒灌入真空(kōng)室(shì)。蒸發(fā)控製單元的加熱率控製旋鈕置(zhì)於儀器麵板上。調節加(jiā)熱器時數(shù)字(zì)顯示表(biǎo)M2直接顯(xiǎn)示(shì)加熱率。
三,主要標
真(zhēn)空度<0.01KPa
氣體壓力(lì)測(cè)量(liáng)範圍(wéi)0.01KPa ~120KPa 四位半(bàn)數字顯示(shì)
加熱(rè)率0 ~200W
率測量 三(sān)位半數字顯(xiǎn)示(shì)
電(diàn)源 220V 50Hz
四,操(cāo)作步(bù)驟(zhòu)
1.準備(bèi)作(zuò)
(1)檢(jiǎn)查儀(yí)器(qì)係統的(dí)電源接綫,惰性氣體(tǐ)連(lián)結管道是(shì)否正(zhèng)常(cháng)。惰(duò)性(xìng)氣體(tǐ)用(yòng)純Ar氣(qì),亦可(kě)考(kǎo)慮使(shǐ)用(yòng)化(huà)學(xué)性(xìng)質不(bù)活(huó)潑的純(chún)N2氣。
(2)利用(yòng)脫脂白綢布(bù),分析純酒,仔細擦(cā)淨真空罩以(yǐ)及罩(zhào)內的底盤(pán),電和(hé)燒杯(bēi)。
(3)將(jiāng)螺(luó)旋(xuán)狀鎢(wū)絲接至(zhì)銅(tóng)電。
(4)從樣(yàng)品盒(hé)中(zhōng)取出銅(tóng)片(用(yòng)於(yú)納(nà)米(mǐ)銅(tóng)粉製備),在鎢(wū)絲(sī)的每圈上掛片,罩(zhào)上燒杯(bēi)。
(5)罩上真空罩(zhào),關(guān)閉(bì)閥(fá)門(mén)V1,V2,將加(jiā)熱(rè)率旋鈕(niǔ)沿(yán)逆時(shí)針(zhēn)方向(xiàng)旋至zui小,合上電源(yuán)總開(kāi)關(guān)S1。此時真空(kōng)度顯(xiǎn)示器顯示(shì)出與(yǔ)大(dà)氣壓(yā)相當(dāng)的數(shù)值,而加(jiā)熱(rè)率(shuài)顯(xiǎn)示(shì)值為零。由(yóu)於HT-218預(yù)置了不(bù)當操作報(bào)警(jǐng),如果加(jiā)熱(rè)率(shuài)旋鈕未(wèi)調(tiáo)節(jié)至zui小,蜂鳴器將(jiāng)持續發出信號(hào)直(zhí)至糾正為止(zhǐ)。
(6)合上開關S2,此時抽氣(qì)單(dān)元開始(shǐ)作(zuò),電磁閉Ve自動接(jiē)通,真空室內壓(yā)力下降。下降至定(dìng)值時(shí)關閉S2,觀(guān)察真空(kōng)度是否基(jī)本(běn)穩(wěn)定(dìng)在該值附(fù)近,如果(guǒ)真空(kōng)度(dù)持(chí)續(xù)變差(chà),表明存在漏(lòu)氣因(yīn)素,檢查V1,V2是否關閉(bì)。正(zhèng)常(cháng)情況(kuàng)下不應(yīng)漏氣(qì)。
(7)打開(kāi)閥(fá)門V1,此時(shí)惰(duò)性(xìng)氣(qì)入真空(kōng)室,氣壓隨(suí)之(zhī)變大(dà)。
(8)熟(shú)練上述(shù)抽氣(qì)與供氣的操作過程(chéng),直(zhí)至可以(yǐ)按實驗的(dí)要求調(tiáo)節(jié)氣(qì)體壓(yā)力。
(9)準(zhǔn)備(bèi)好備用的幹淨毛(máo)刷和收(shōu)集(jí)納米微粉的(dí)容器(qì)。
2.製備(bèi)銅納米微(wēi)粒(lì)。
(1)關(guān)閉V1,V2閥門(mén),對真空室(shì)抽氣(qì)至(zhì)0.05kPa附(fù)近。
(2)利用氬氣(或(huò)氮氣(qì))衝(chōng)洗真(zhēn)空室。打(dǎ)開(kāi)閥門V1使(shǐ)氬氣(或(huò)氮(dàn)氣)入真空室(shì),邊(biān)抽(chōu)氣邊(biān)氣(qì)(氬氣(qì)或氮氣(qì))約5分鐘(zhōng)。
(3)關(guān)閉閥(fá)V1,觀(guān)察真空(kōng)度至0.13kPa附(fù)近時關(guān)閉(bì)S2,停(tíng)止抽氣(qì)。此(cǐ)時(shí)真(zhēn)空度應(yīng)基本穩(wěn)定在0.13kPa附(fù)近。
(4)沿順(shùn)時(shí)針方(fāng)向緩慢旋轉(zhuǎn)加熱率旋(xuán)鈕(niǔ),觀察加(jiā)熱率(shuài)顯示(shì)器(qì),同時關(guān)注鎢(wū)絲。隨著(zhuó)加(jiā)熱率的逐(zhú)漸增大(dà),鎢絲逐(zhú)漸(jiàn)發(fā)紅而變(biàn)亮。當溫(wēn)度(dù)達到(dào)銅片(或其(qí)它(tā)材(cái)料)的(dí)熔(róng)點時銅片(piàn)熔化(huà),並由於(yú)表麵張力(lì)的原因,浸(jìn)潤(rùn)至鎢絲(sī)上(shàng)。
(5)繼(jì)續(xù)加(jiā)大加熱(rè)率時(shí)可(kě)以見到用(yòng)作收集(jí)器的燒(shāo)杯(bēi)表麵(miàn)變黑(hēi),表明蒸發(fā)已經(jīng)開始(shǐ)。隨著蒸(zhēng)發過(guò)程的(dí)展,鎢(wū)絲(sī)表(biǎo)麵(miàn)的銅液(yè)越來越少(shǎo),zui終蒸(zhēng)發掉(diào),此時應(yīng)立即將加熱率(shuài)調至zui小。
(6)打開閥門(mén)V2使(shǐ)空氣(qì)入(rù)真空(kōng)室(shì),當(dāng)壓力與大氣壓(yā)zui近時,小(xiǎo)心移開真空(kōng)罩(zhào),取下(xià)作為收(shōu)集罩(zhào)的燒杯。用(yòng)刷子(zǐ)輕輕地(dì)將(jiāng)層黑(hēi)色(sè)粉(fěn)末刷至燒(shāo)杯底再倒入(rù)備好的容(róng)器,貼(tiē)上標簽(qiān)。收集到(dào)的(dí)細粉即是(shì)納米銅粉。
(7)在2×0.13kPa,5×0.13kPa,10×0.13kPa及30×0.13kPa處(chǔ)重復(fù)上(shàng)述(shù)實驗步(bù)驟製備(bèi),並記錄每(měi)次(cì)蒸(zhēng)發(fā)時的加(jiā)熱率(shuài),觀察每(měi)次(cì)製(zhì)備時蒸發情(qíng)況有何差(chà)異。
變(biàn)溫(wēn)霍爾效(xiào)應實(shí)驗儀 型號(hào):DP-HT-648
霍爾效應(yīng)的(dí)測量(liáng)是開(kāi)展(zhǎn)半導(dǎo)體研(yán)究(jiū)的重(zhòng)要方法。本機利(lì)用(yòng)計算機的數(shù)據采(cǎi)集(jí)和處理在(zài)80K-400K溫度範(fàn)圍(wéi)內(nèi)對(duì)霍(huò)爾係(xì)數(shù)和電導率(shuài)的(dí)聯合測量(liáng),行(háng)半(bàn)導體(tǐ)導電機製及散射機(jī)製(zhì)的研(yán)究(jiū),並可(kě)確(què)定半導(dǎo)體的些基本(běn)參數,如(rú)導電(diàn)類型,載(zǎi)流子(zǐ)濃度,遷(qiān)移率(shuài),禁帶(dài)寬(kuān)度(dù)以及雜(zá)質電(diàn)離能等。
主(zhǔ)要標
1.電(diàn)磁鐵 0-300mT連(lián)續(xù)可調
2. 勵(lì)磁(cí)電(diàn)源 0-5A連續可(kě)調(tiáo) 可自動換向 穩(wěn)定性(xìng)﹤±0.1%
3. 數(shù)字特斯(sī)拉計(jì) 0-2000mT 三位(wèi)半數(shù)字顯(xiǎn)示 分辨率0.001
4. 恒流(liú)源(yuán)輸出 1mA 穩(wěn)定性±0.1%
5. 數(shù)據采(cǎi)集係統霍爾電(diàn)壓(yā)測(cè)量zui小(xiǎo)分(fēn)辨(biàn)率1uV
6. 溫(wēn)度變(biàn)化(huà)測(cè)量範圍 80-400K
7. 整(zhěng)套(tào)儀器由電磁鐵(tiě)係(xì)統(tǒng),電(diàn)源(yuán)控製係(xì)統機(jī)箱(xiāng),測量(liáng)係統主(zhǔ)機(jī),恒溫器(qì)四分(fēn)組成
8. 探(tàn)頭樣(yàng)品采用單(dān)晶鍺片
電子(zǐ)束(示波器(qì))實(shí)驗儀 型(xíng)號:DP-LB-EB4
測量(liáng)電子(zǐ)在(zài)電場,磁場中(zhōng)運動規律(lǜ),示(shì)波器(qì)的原理,結構及組裝(zhuāng),示(shì)波(bō)器的使用(配合其(qí)他儀器(qì)成(chéng))
光(guāng)電效應(yīng)(普(pǔ)朗克(kè)常數)實驗儀 型(xíng)號:DP-LB-PH3A
光電管(guǎn)靈(líng)敏度≥1mA/Lm,暗(àn)電流(liú)≤10 -12A;
零(líng)飄≤0.2%(滿度(dù)讀(dú)數(shù),10 A檔(dàng),預熱20分種後(hòu),正常(cháng)環(huán)境下30分(fēn)鐘內(nèi)測(cè)得(dé));3位半(bàn)LED顯(xiǎn)示,電流zui小(xiǎo)顯示(shì)10 A,電壓(yā)zui小顯(xiǎn)示(shì)1mV,所(suǒ)以可以(yǐ)采(cǎi)用“零電(diàn)流法"或“補償法(fǎ)"確(què)測出截止電壓(yā)
夫(fū)蘭(lán)克(kè)赫茲實(shí)驗(yàn)儀 型號:DP-LB-FH
充氬夫蘭克(kè)-赫茲(zī)管(無需(xū)加(jiā)熱),點(diǎn)測譜(pǔ)峰(穀)數(shù)≥7,示波器觀測譜峰(穀)數≥7,實(shí)驗(yàn)麵板圖示法表示,5塊LED數(shù)字麵板盡(jìn)數顯示實(shí)驗(yàn)參(cān)數,各參數(shù)表(biǎo)頭立(lì),清晰直觀,穩(wěn)定(dìng)可靠(kào),手(shǒu)動,半自動,微(wēi)機實驗方(fāng)式齊。
注(zhù):產(chǎn)品詳(xiáng)細(xì)介紹資料和上麵(miàn)顯示產(chǎn)品(pǐn)圖片(piàn)是(shì)相對應的